电介质

(半导体元件用)

在芯片制造中,SEMICOSIL®-正硅酸乙酯(TEOS)是重要的原料,非常适用于通过化学气相沉积法(CVD)来制备介电层。 在开发新型SEMICOSIL® 硅烷时,瓦克采用了更为严格的技术规范,以获得更低的介电常数,满足最新一代芯片的需要。

符合您选择的推荐产品共有 2 种。
产品 应用显示全部 产品分类硅烷 性质性质显示全部 content
SEMICOSIL&reg 2M2M 化学气相沉积(CVD)前体 硅烷 电子级 > 99 %
SEMICOSIL&reg M3E 化学气相沉积(CVD)前体 硅烷 电子级 > 99 %

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